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美國 AP TECH 鋯鎢 濺射 陰極

簡要描述:美國 AP TECH 鋯鎢 濺射 陰極
聯(lián)系張經(jīng)理:I872I868549(微信同號)

  • 產(chǎn)品型號:電子源
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 更新時間:2024-12-13
  • 訪  問  量:664
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美國 AP TECH 鋯鎢 濺射 陰極

美國 AP TECH,電子源,鋯鎢 (ZrOW) 熱場發(fā)射器 (TFE)

熱場發(fā)射器 (TFE) 與熱電子發(fā)射器一樣被加熱,但也經(jīng)過電化學(xué)蝕刻,具有顯微鏡下鋒利,類似于冷場發(fā)射器的方式。

美國 AP TECH 鋯鎢 濺射 陰極


由于發(fā)射器的清晰度及其在操作過程中指向抑制器的方向,在源會產(chǎn)生非常高的電場。

場對勢壘的降低以及通過加熱提供給電子的熱能產(chǎn)生了能夠在非交叉模式(或虛擬源模式)下運行的源。因此,與熱離子發(fā)射器不同,TFE 不受空間電荷限制,并且比典型的熱離子源亮幾個數(shù)量級。

APT 現(xiàn)在提供鋯鎢熱場發(fā)射器 (ZrOW TFE),俗稱肖特基源。ZrOW TFE 是行業(yè)標(biāo)準發(fā)射器,適用于需要高亮度、提高空間分辨率、穩(wěn)定發(fā)射和長壽命的電子束應(yīng)用。

我們的 ZrOW 源符合一般 OEM 性能規(guī)格和操作參數(shù),可以使用定制的端形(半徑)幾何形狀和任何發(fā)射極基座/抑制器配置(包括 FEI/Philips、Denka、Hitachi、JEOL 或定制配置)制造。

美國 AP TECH 鋯鎢 濺射 陰極

使用此圖表可比較我們的 TE、CFE 和 TFE 離子源的一般操作要求和性能規(guī)格

美國 AP TECH 鋯鎢 濺射 陰極

Applied Physics Technologies熱離子發(fā)射器(TE),AP Tech熱離子發(fā)射陰極

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數(shù)十年的研究、開發(fā)和電子源制造,AP TECH對電子發(fā)射物理學(xué)的深入了解使我們的商用熱敏、場發(fā)射和熱場發(fā)射陰極生產(chǎn)商,這些產(chǎn)品用于顯微鏡、微量分析、X 射線生成、光刻、增材制造或任何其他需要高亮度源的電子束應(yīng)用。

在熱離子狀態(tài)下工作的陰極被加熱到高溫。當(dāng)電子有足夠的熱能來克服制造陰極的材料的功函數(shù)時,就會發(fā)生發(fā)射。

Applied Physics Technologies的熱離子陰極由六硼化鑭(LaB6)和六硼化鈰(CeBix®)制成。LaB6和CeBix®都是低功函數(shù)材料,可生產(chǎn)相對高亮度的陰極,有適度的真空要求和較長的保質(zhì)期。這些陰極在高達20A/cm2的電流密度下提供長期、穩(wěn)定的操作,使其非常適合小光斑應(yīng)用,如SEM、TEM、電子束滅菌、表面分析和計量,以及大電流應(yīng)用,如x射線生成、光刻和增材制造。

在APT,我們在內(nèi)部種植和制造我們自己的高質(zhì)量單晶LaB6和CeBix®,使用一種生產(chǎn)商業(yè)上最純和低功函數(shù)材料的工藝。經(jīng)過精煉,我們的硼化物可以定制成各種形狀,具有不同的加熱、安裝和底座配置,所有這些都是為了滿足客戶的操作和性能要求而設(shè)計的。

由于功函數(shù)LaB6略低,CeBix®陰極在略低的工作溫度下產(chǎn)生更高的電流。因此,CeBix®光源的亮度略高,使用壽命更長。APT是世界上的CeBix®陰極生產(chǎn)商。

Applied Physics Technologies還可以分別提供LaB6和CeBix®單晶棒和單晶盤。

使用此圖表可比較我們的 TE、CFE 和 TFE 離子源的一般操作要求和性能規(guī)格



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